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立体光刻技术的优势及其弊端
1、物料成本在一定程度上降低。由于打印机便宜，塑料卷比树脂便宜。光固化是快速原型开发的第一步，也是3D打印技术最快的一种方法，但是它是一个很好的解决方案，可以用来制造高精度、高寿命的原型。
2、打印速度快 一般来说，DLP 3D打印技术的优点之一是打印速度快，这点在与SLA技术相比时尤为明显。虽然SLA和DLP都是常见的3D打印技术，原理都相似，均是通过紫外光照射光敏树脂固化成型。
3、国外企业的技术优势，使得中国的光刻机处于落后位置。
4、cad）r以更快的速度创建生产部件的真实比例模型。立体光刻技术已极大地帮助工程师可视化复杂的三维零件几何形状，检测原型示意图中的错误，测试关键部件以及以相对较低的成本和更快的时间范围验证理论设计。
5、接触损伤：由于接近式光刻机需要将掩模与光刻胶直接接触，可能会造成掩模和光刻胶的损伤。 对掩模要求高：接近式光刻机对掩模的平整度和表面质量要求较高，否则会影响图案的转移质量。
6、高精度技术 荷兰光刻机的高精度技术是其最大的优势之一。它采用了多种高精度技术，如光学投影、光刻胶、掩模等。其中，光学投影是最重要的技术之一。
光刻技术是什么
光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System。
光刻机是一种可以制造芯片的机器。光刻机是一种在半导体制造过程中使用的高精度设备，用于将光敏剂覆盖在硅片或其他基板上，并通过光源和光学系统投射光线形成图案，从而进行微米级或纳米级的图案转移。
光刻机，又名掩模对准曝光机、曝光系统等，是制造芯片的核心装备。光刻机采用类似照片冲印的技术，能够把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
光刻机的核心技术在哪国?
1、原因一：荷兰的ASML并不是一家白手起家的公司，而是从著名电子制造商飞利浦，独立出来的一个公 司，背后肯定有相关的人员，经济上的资助。
2、美国掌握光刻机核心技术，领先中国大约二十年。
3、荷兰之所以能够拥有高端光刻机的核心技术，离不开西方一些国家的技术支持。比如目前asml的光源设备是由美国的企业提供，另外ASML的镜头是由德国的蔡司提供的，这些企业在自身的领域就是世界顶尖的水平。
4、中国有光刻机，位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。
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